Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Название статьи
- ПОВЕРХНОСТНЫЙ И ПОСЛОЙНЫЙ ХИМИЧЕСКИЙ АНАЛИЗ СЛИТКА ВЫСОКОЧИСТОГО АЛЮМИНИЯ И ЕГО СОБСТВЕННОГО ОКСИДА МЕТОДАМИ РЕНТГЕНОВСКОЙ ФОТОЭЛЕКТРОННОЙ И ИОН-ИОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ
- Авторы
- Марков Ф. В. , канд. техн. наук; ст. науч. сотр, ,
Аминов Б. А. , ст. науч. сотр, ,
- В разделе
- ИЗМЕРЕНИЯ. ИСПЫТАНИЯ. КОНТРОЛЬ И УПРАВЛЕНИЕ КАЧЕСТВОМ
- Ключевые слова
- Год
- 2008 номер журнала 1 Страницы 67 - 69
- Индекс УДК
- УДК 699.71:546.621
- Код EDN
- Код DOI
- Тип статьи
- Научная статья
- Аннотация
- Проведен сравнительный анализ применяемых методов электронной спектроскопии (микроанализа) и масс-спектроскопии. Сведены в таблицу метрологические характеристики различных методов локального анализа и анализа поверхности материалов и приведены результаты исследований спектров в интервале энергий 1,1-1100 эВ для слитка высокочистого алюминия в оболочке его собственного оксида после их формирования в графитовой ампуле.
- Полный текст статьи
- Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Список цитируемой литературы
-
Пролейко В. М. Аналитическое приборостроение электроники// Электронная промышленность. 1978. № 11/12 (71/72). С. 3-9.
Борзенко А. Г., Гимельфарб Ф. А., Меньшиков О. Д., Харкевич С. И. Методы локального анализа и анализа поверхности в микроэлектронике. - В кн.: Физико-химические процессы в микроэлектронике. - М.: МИТХТ им. М. В. Ломоносова, 1990. С. 262-277.
Хайридинов С. Х., Аминов Б. А., Вахобов А. В., Обидов Ф. У. Некоторые особенности кристаллизационной очистки алюминия во вращающемся контейнере// Высокочистые вещества. 1991. № 3. С. 98-101.
- Купить
