Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Название статьи
- КРИТЕРИЙ КАЧЕСТВА В АВТОМАТИЗИРОВАННОМ ПРОЕКТИРОВАНИИ УСТРОЙСТВ ОБОРУДОВАНИЯ ИММЕРСИОННОЙ ЛИТОГРАФИИ
- Авторы
- Васин Владимир Анатольевич vacuumwa@list.ru, докторант, Московский государственный институт электроники и математики, Россия, 109028, Москва, Б. Трехсвятительский пер., 3
Ивашов Евгений Николаевич ienmiem@mail.ru, д-р техн. наук, профессор кафедры "Технологические системы электроники", Московский государственный институт электроники и математики (технический университет), Москва, Россия
Балан Никита Никитович , канд. техн. наук, главный специалист, Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ (Технический университет), Россия
Костомаров Павел Сергеевич , аспирант, Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ (Технический университет), Россия
Степанчиков Сергей Валентинович ienmiem@mail.ru, канд. техн. наук, доцент, Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ (Технический университет), Россия Тел. 8 (499) 235-64-35
- В разделе
- ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА И ОБОРУДОВАНИЕ В ПРИБОРОСТРОЕНИИ. ЭЛЕКТРОТЕХНИКА. РАДИОТЕХНИКА. ЭЛЕКТРОНИКА.
- Ключевые слова
- автоматизированное проектирование / иммерсионная ультрафиолетовая литография / обоб- щенный критерий оценки качества / устройство для формирования нанодорожек / технологическая дефектность процесса
- Год
- 2012 номер журнала 3 Страницы 69 - 77
- Индекс УДК
- УДК 681.513, 521.382
- Код EDN
- Код DOI
- Тип статьи
- Научная статья
- Аннотация
- Рассмотрен подход, позволяющий осуществлять выбор параметров нового технического решения, принимаемого за основу при создании оборудования иммерсионной ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство, обеспечивающее возможность формирования дорожек нанометрового диапазона с проектными нормами не более 32 нм и минимальной технологической дефектностью процесса.
- Полный текст статьи
- Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Список цитируемой литературы
-
Hand A. Double Patterning Wrings More From Immersion Lithography // Semiconductor International, 2007. January. - 17 p.
IMEC. CMOS based technology R&D programs URL http://www.imec.be/ScientificReport/SR2008/ /HTML/files/pdf/Brochure_CMORE.pdf
Yayi Wei, Robert L. Brainard. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography / SPIE Publications. 2009. - 360 p.
URL <http://arstechnica.com/hardware/news/2008/12/despite-economic-slowdown-intel-on-track-with-32nm-of-win.ars>
Official site of ASML URL <http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=427>
Карлик Е. М., Великанов К. М., Власов В. Ф. и др. Экономика машиностроения/Под общ. ред. Е. М. Карлика. 2-е изд., перераб. и доп. - Л.: Машиностроение, 1985. - 392 с.
Ивашов Е. Н., Корпачев М. Ю., Костомаров П. С. Формирование нанообъектов литографическим методом/Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения (INTERMATIC - 2010): Матер. VII Междунар. науч.-техн. конф., Москва, 23-27 ноября 2010 г. - М.: Энергоатомиздат, 2010. Ч. 2. С. 332, 333.
Патент на полезную модель 104509 РФ, МПК7 7H01J 37/28. Устройство для формирования нанодорожек/П. С. Костомаров, Е. Н. Ивашов, М. Ю. Корпачев; заявитель и патентообладатель МИЭМ. № 2010146415/07; Заявл. 15.11.2010; Опубл. 20.05.2011. Бюл. № 14.
- Купить
