Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Название статьи
- ОБРАБОТКА ИНФОРМАЦИИ О ПРЕДПОЧТЕНИЯХ ПРИ ПОИСКЕ РЕШЕНИЙ ОТРАЖАТЕЛЬНЫХ ФОТОШАБЛОНОВ ДЛЯ УЛЬТРАФИОЛЕТОВОЙ ЛИТОГРАФИИ
- Авторы
- Васин Владимир Анатольевич vacuumwa@list.ru, докторант, Московский государственный институт электроники и математики, Россия, 109028, Москва, Б. Трехсвятительский пер., 3
Ивашов Евгений Николаевич ienmiem@mail.ru, д-р техн. наук, профессор кафедры "Технологические системы электроники", Московский государственный институт электроники и математики (технический университет), Москва, Россия
Балан Никита Никитович , канд. техн. наук, главный специалист, Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ (Технический университет), Россия
Степанчиков Сергей Валентинович ienmiem@mail.ru, канд. техн. наук, доцент, Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ (Технический университет), Россия Тел. 8 (499) 235-64-35
Корпачёв Максим Юрьевич mkorpachev@gmail.com, аспирант, Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ (Технический университет), Россия
- В разделе
- ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА И ОБОРУДОВАНИЕ В ПРИБОРОСТРОЕНИИ. ЭЛЕКТРОТЕХНИКА. РАДИОТЕХНИКА. ЭЛЕКТРОНИКА.
- Ключевые слова
- обработка информации в проектировании / ультрафиолетовая литография / отражательные фотошаблоны / устройство для формирования нанодорожек на подложке / повышение производительности
- Год
- 2012 номер журнала 3 Страницы 77 - 86
- Индекс УДК
- УДК 681.513, 621.382
- Код EDN
- Код DOI
- Тип статьи
- Научная статья
- Аннотация
- Рассмотрены аналитические модели, позволяющие осуществить возможность исследования свойств и особенностей предпочтительных вариантов и помогающие выбрать направление опроса проектировщиков оборудования ультрафиолетовой литографии. Представлено устройство с использованием эффекта обращения волнового фронта, обеспечивающее создание высоконаправленных пучков, которое позволяет повысить производительность нанесения нанодорожек на подложку.
- Полный текст статьи
- Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Список цитируемой литературы
-
Валиев К. А. Физика субмикронной литографии. - М.: Наука, 1990. - 528 с.
Никитин А. В. Разрешение оптических систем и проблема воспроизведения минимальных элементов изображения//Прикладная физика, 1997. № 4. С. 32-41.
Трунин Д. А., Ларищев В. П., Никитин А. В. Оптические свойства отражательных фотошаблонов// Электронный журнал "Исследовано в России", 2000. С. 1-3.
Трунин Д. А., Лаврищев В. П. Расчет числовой апертуры схемы литографии, основанной на эффекте обращения волнового фронта с применением отражательного шаблона//Сб. тез. докл. Всерос. науч.-техн. конф. "Новые материалы и технологии НМТ-2002". - М., 2002. С. 81, 82.
Золотарёв В. М., Морозов В. Н., Смирнова Е. В. Оптические постоянные природных и технических сред: Справочник. -- Л.: Химия, 1984. - 216 с.
Слободин М. Ю., Царёв Р. Ю. Компьютерная поддержка многоатрибутивных методов выбора и принятия решения при проектировании корпоративных информационно-управляющих систем. - СПб.: Инфо-да, 2004. С. 85-91.
Патент на полезную модель 104508 РФ, МПК7 B 28 B 1/29. Устройство для формирования нанодорожек на подложке//М. Ю. Корпачёв, П. С. Костомаров, П. С. Кузнецов, Е. Н. Ивашов, П. А. Лучников; заявитель и патентообладатель МИЭМ. № 2010146414/07; Заявл. 15.11.2010; Опубл. 20.05.2011. Бюл. № 14.
Ивашов Е. Н., Корпачёв М. Ю., Костомаров П. С. Формирование нанообьектов литографическим методом // Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения (INTERMATIC-2010): Матер. VII Междунар. науч.-техн. конф., Москва, 23-27 ноября 2010 г. - М.: Энергоатомиздат, 2010. Ч. 2. С. 232, 233.
- Купить
