Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Название статьи
- АНАЛИЗ ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИХ МОДЕЛЕЙ СКОРОСТИ РОСТА АМОРФНЫХ ПЛЕНОК а-SI:H В СИЛАНОВЫХ ПЛАЗМЕННЫХ СМЕСЯХ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
- Авторы
- Евстафьев Сергей Сергеевич madcatse@gmail.com, инженер, аспирант кафедры "Микроэлектроника", Московский государственный институт электронной техники (технический университет), Москва, Россия
Тимошенков Сергей Петрович spt@miee.ru, д-р техн. наук, профессор, заведующий кафедрой "Микроэлектроника", Национальный исследовательский университет "МИЭТ", Москва, Россия Тел.: 8 (499) 720-87-68
Бритков Игорь Михайлович b_i_m@mail.ru, инженер, аспирант кафедры "Микроэлектроника", Московский государственный институт электронной техники (технический университет), Москва, Россия Тел. 8 (909) 625-32-77
Бритков Олег Михайлович b_o_m@inbox.ru, канд. техн. наук, инженер кафедры "Микроэлектроника", Московский государственный институт электронной техники (технический университет), Москва, Россия Тел. 8 (964) 591-99-06
Прокопьев Евгений Петрович epprokopiev@mail.ru, канд. физ.-мат. наук, старший научный сотрудник, Институт теоретической и экспериментальной физики им. А. И. Алиханова, Москва, Москва, Россия Тел. 531-11-04
- В разделе
- ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА И ОБОРУДОВАНИЕ В ПРИБОРОСТРОЕНИИ. ЭЛЕКТРОТЕХНИКА. РАДИОТЕХНИКА. ЭЛЕКТРОНИКА
- Ключевые слова
- теория пограничного слоя / модель роста / математическая модель / силановая плазма
- Год
- 2011 номер журнала 1 Страницы 73 - 78
- Индекс УДК
- УДК 544.032.76
- Код EDN
- Код DOI
- Тип статьи
- Научная статья
- Аннотация
- На основании модели теории пограничного слоя предложены одномерные модели роста аморфных пленок на различных подложках в условиях высокочастотного тлеющего разряда в силановых плазменных смесях пониженного давления. Эти модели позволили определить условие стабилизации αV технологических параметров при допустимом разбросе пленок a-Si:H по толщине в 5 %: αV < 1,1 %.
- Полный текст статьи
- Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Список цитируемой литературы
-
Petrov S. V., Prokop'ev E. P., Sokolov E. M. Analysis of amorphous silicon deposition conditions in plasma silane mixtures at low pressure// Nuovo Cimento. D. 1997. V. 19. No. 6. P. 817-826.
Франк-Каменецкий Д. А. Диффузия и теплопередача в химической кинетике. - М.: Наука, 1967. - 492 с.
Ландау Л. Д., Лифшиц Е. М. Гидродинамика. - М.: Наука, 1986.
Зельдович Я. Б., Райзер Ю. П. Физика ударных волн и высокотемпературных гидродинамических явлений. - М.: Наука, 1966.
Прокопьев Е. П. Модель пограничного слоя роста пленок a-Si:H в условиях ВЧ-тлеющего разряда в газовых смесях SiH4-H2// Высокочистые вещества. 1991. № 2. С. 180-184.
Прокопьев Е. П. Модель осаждения пленок a-Si:H в ВЧ-тлеющем разряде в газовых смесях SiH4-H2 и SiH4-He// Известия вузов, сер. Химия и химическая технология. 1992. Т. 34. С. 109-115.
Прокопьев Е. П. Элементарная теория осаждения пленок a-Si:H в ВЧ-тлеющем разряде//Химия высоких энергий. 1992. Т. 26. С. 169-172.
Прокопьев Е. П.// Высокочистые вещества. 1992. № 3. С. 67. E. P. Prokop'ev. Elementary analytical model of a-Si:H film deposition in rf glow-discharge conditions in SiH4-H2 gas mixture. Vysokochistye veshechestva. 1992. No. 3. P. 67-71.
Петров С. В., Прокопьев Е. П., Соколов Е. М. Гибридная модель роста пленок a-Si:H в ВЧ-тлеющем разряде в газовых смесях SiH4-H2// Физика и химия обработки материалов. 1993. № 2. С. 85-90.
Прокопьев Е. П. Теоретические основы химической технологии. Процесс роста аморфных пленок a-Si:Н в условиях высокочастотного разряда в силановых газовых смесях. 1994. Т. 28. С. 43-47.
Прокопьев Е. П., Петров С. В., Соколов Е. М. Анализ режимов процесса роста аморфных пленок a-Si:Н в силановых плазменных смесях пониженного давления// Физика и химия обработки материалов. 1997. № 2. С. 70-74.
Прокопьев Е. П., Петров С. В., Соколов Е. М. Пленки a-Si:Н : в ВЧ-тлеющем разряде газовой смеси SiH4-H2// Петербургский журнал электроники. 1997. № 2. С. 14-19.
Прокопьев Е. П., Петров С. В., Соколов Е. М. Пленки a-Si:Н : в ВЧ-тлеющем разряде газовой смеси SiH4-H2. Экспериментальные данные// Там же. № 3. С. 31-38.
Лившиц Н. А., Пугачев В. Н. Вероятностный анализ систем автоматического управления. - М.: Советское радио, 1963.
- Купить
