Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Название статьи
- ОПТИМИЗАЦИЯ ПРОЦЕССОВ ГЛУБОКОГО ТРАВЛЕНИЯ КРЕМНИЯ ДЛЯ МЭМС СТРУКТУР
- Авторы
- Тимошенков Сергей Петрович spt@miee.ru, д-р техн. наук, профессор, заведующий кафедрой "Микроэлектроника", Национальный исследовательский университет "МИЭТ", Москва, Россия Тел.: 8 (499) 720-87-68
Виноградов Анатолий Иванович plavec@list.ru, инженер-технолог, Национальный исследовательский университет"МИЭТ", Москва, Россия
Зарянкин Николай Михайлович n.zaryankin@mail.ru, канд. техн. наук; старший научный сотрудник, Национальный исследовательский университет"МИЭТ", Москва, Россия
- В разделе
- ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА И ОБОРУДОВАНИЕ В ПРИБОРОСТРОЕНИИ. ЭЛЕКТРОТЕХНИКА. РАДИОТЕХНИКА. ЭЛЕКТРОНИКА
- Ключевые слова
- глубокое травление кремния / МЭМС
- Год
- 2013 номер журнала 2 Страницы 68 - 73
- Индекс УДК
- УДК [544.588:621.794.4]:[681.586.72:621.3.049.77]
- Код EDN
- Код DOI
- Тип статьи
- Научная статья
- Аннотация
- Проведен комплекс исследований, направленных на совершенствование процессов высокопрецизионного глубокого травления кремния для формирования элементов МЭМС. Рассмотрены следующие аспекты процесса глубокого травления кремния: шероховатость поверхности после травления, однородность травления по поверхности пластины, селективность травления кремния по отношению к маскам из фоторезиста и SiO2. Достигнуто значительное улучшение характеристик процесса. Полученные результаты использованы при изготовлении кремниевых акселерометров и гироскопов.
- Полный текст статьи
- Необходимо зарегистрироваться, чтобы получить доступ к полным текстам статей и выпусков журналов!
- Список цитируемой литературы
-
Виноградов А. И., Зарянкин Н. М., Тимошенков С. П. Оптимизация шероховатости поверхности кремния при процессах глубокого плазмохимического травления элементов МЭМС // Сб. науч. трудов 3-й Междунар. науч. конф. "Функциональная компонентная база микро-, опто- и наноэлектоники". 28 сентября - 2 октября 2010 г. - Украина, пос. Кацивели, 2010. С. 17-20.
Ахназарова С. Л., Кафаров В. В. Оптимизация эксперимента в химической технологии. - М.: Высшая школа, 1983. - 381 с.
Виноградов А. И., Зарянкин Н. М., Прокопьев Е. П. и др. Оптимизация параметров процесса глубокого плазмохимического травления кремния для элементов МЭМС //Изв-во вузов. Электроника. 2010. № 2 (82). С. 3-9.
Lieberman M. A., Booth J. P., Chabert Р., Rax J. M., Turner M. M. Standing wave and skin effects in large-area, high-frequency capacitive discharges // Plasma Sources Sci. Technol. 2002. V. 11. P. 283-293.
Берлин Е. В., Двинин С. А., Морозовский Н. А. и др. Реактивное ионно-плазменное травление и осаждение. Установка "Каролина 15" // Электроника: Наука, Технология, Бизнес. 2005. № 8. С. 78-80.
Григорьев Ю. Н., Горобчук А. Г. Численная оптимизация плазмохимического реактора // Вычислительные технологии. 1997. Т. 2. № 6. С. 12-23.
Берлин Е. В., Двинин С. А., Михеев В. В. и др. Двухмерные распределения плотности плазмы в газовом разряде низкого давления // Физика плазмы. 2004. № 12. С. 1043-1051.
- Купить